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減少高圖案密度區域金屬腐蝕半導體CMP製程可靠性提升 - 新電子
圖1說明了半導體元件BEOL中常見的金屬CMP製程。 ... 工程師可利用SEMulator3D製程模擬來分析CMP缺陷,包括圖案密度變異造成的腐蝕和凹陷。CMP製程模型 ...
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