你即將離開本站

並前往https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202005151379759201_1.pdf?1589528514000.pdf

化工CMP:半导体平坦化核心技术，国内龙头放量在即

直至今日，采用氧化铈研磨液的抛光工艺依然是STI CMP. 的主流方法。 图4：Direct STI CMP 抛光工艺. 图5：铜CMP 中采用双大马士革工艺. 资料来源 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「cmp研磨液」的人也找了：

  1. cmp slurry研磨液成分
    2.
  2. cmp slurry供應商
    3.
  3. CMP slurry
    4.
  4. cmp研磨液廠商
    5.
  5. cmp slurry介紹
    6.
  6. 台積電化學機械研磨
    7.
  7. cmp研磨頭
    8.
  8. cmp研磨墊
    9.