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cmp原理
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用于超精密硅晶片表面的化学机械抛光(CMP)技术研究
化学机械抛光(CMP)技术作为目前唯一的叮以提供在整个圆硅晶片上全面平坦化的工艺 ... 重点叙述了CMP技术背景、设备、抛光原理、发展现状、存在的问题以及未来的发展 ...
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