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cmp原理
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https://www.appliedmaterials.com/tw/zh_tw/semiconductor/semiconductor-technologies/cmp.html
CMP - Applied Materials
化學機械平坦化會移除晶圓正面的多餘材料並進行平坦化,方法是透過在晶圓背面施加精確的下壓力,將正面壓在特殊材料的旋轉墊上;特殊材料包含了化學物質和研磨劑的混合物。
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