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化学机械抛光（CMP）是什么？主要应用在哪？ - 三个皮匠报告

CMP 工作原理是在一定压力下和抛光液的作用下，使得被抛光的晶圆对抛光垫做相对运动，加之有机结合纳米磨料的机械研磨作用和氧化剂、催化剂等的化学腐蚀作用，使得物质能够 ...

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