... 電漿化學氣相沉積(ICPCVD)成長穿隧介電層及S3N4 電荷捕捉層,以Charge-pumping 量測分析氧化層電荷及提出新穎抹除方法,藉由以上研究方法將改善快閃記憶體元件之操.
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