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IC製程用193nm光阻劑之製備及微影性質研究STUDY ON ...

amplified, CA)，將具光敏感性之光酸發生劑與高分子 ... 及Frechet於1983 [1~3] 年所提出，CA光阻基本上包 ... 量為0.5 mole% 下，從表1 可看出，各組成之分子量.

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