你即將離開本站

並前往http://www.gptc.com.tw/tw/product/product_detail-16

RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司

半導體 晶圓製程中有五大污染物：微粒、金屬不純物、有機污染物、自然生成氧化層及 ... 氟酸，而其中CH3COOH則扮演類似緩衝(Buffer)溶液角色，使蝕刻率能經常保持穩定。

確定！ 回上一頁

查詢 「buffer半導體」的人也找了：

  1. buffer layer作用
    2.
  2. buffer layer中文
    3.
  3. 緩衝層作用
    4.
  4. 緩衝層半導體
    5.
  5. Buffer layer
    6.
  6. OHB OHT
    7.