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面向45纳米CMOS工艺的硅化镍薄膜工艺研究-手机知网
主要研究内容如下:(1) 比较了新型SiCoNi预清洗与传统缓冲氢氟酸(BHF)预清洗的优劣。实验结果表明,与BHF清洗相比较,SiCoNi预清洗更能有效地降低电极的电阻值, ...
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