(BHF):. 應用於清除矽晶圓表面自然生成的. 氧化層,可使用稀釋後的氫氟酸(0.49%~. 2%)或是以氫氟酸與氟化銨所生成的緩衝. 溶液HF/NH4F=1:200~400,在室溫下進行.
確定! 回上一頁