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电子级多晶硅生产过程中多晶硅和杂质硼的吸附机理研究

... 通过计算结果表面BCl3和SiHCl3在Si（100）晶胞表面的最佳吸附位分别为分子正位、氢底 ... Cl atom and B atom in the BCl3 molecule is significantly elongated.

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