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觀點投書：中國向光刻機急起直追

中國自產光刻機如上海微電子的製機，只能加工90 nm (奈米) 工藝芯片，與ASML的7 nm EUV (External Ultraviolet, 極短紫外線) 光刻機相較，技術差距了十幾 ...

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