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【美股研究報告】ASML艾司摩爾，光刻機市場壟斷者

EUV、ArFi、ArF為光刻設備中較高階機型，因波長較短、能量較高，可用於生產奈米數較小之晶圓，ASML目前在最高階機型EUV的市占率為100%、ArFi市占率約為90% ...

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