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半導體曝光機

臺積電N7P（改良型7 奈米）是該公司利用EUV 極紫外光微影達成的第一個技術節點，未來N5、N3 等先進製程，將會更依賴ASML 的EUV 曝光機。 半導體曝光機應用於半導體晶片 ...

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