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（巨大化光刻機）中國新EUV光刻機方案（SSMB-EUV）

... 機內要真空仲有淨係反射可以無幾十% 所以個鏡面要極反光. ASML為左減少損耗有咁少len用咁少， 光源有咁近就咁近以家中國話要將EUV光源整係外面. 市太龍 ...

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