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薛偉傑：ASML韓設維修中心內媒揣測不斷 - SBIR

但同時，另一種解讀卻認為，由上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）研發、可以達到28nm製程的國產沉浸式深紫外（DUV）光刻機已經取得重大進展，有望在今年下半年或 ...

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