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ALD,原子層沉積技術及應用 - 大永真空設備

其中，自我侷限的意思為：一次的ALD cycle，只在基板(Substrate)表面成長單一原子層之薄膜； ... 通入惰性氣體(Ar或N2)吹除多餘的TMA分子或副產物；上述步驟(1)~(4)或 ...

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