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半導體化學氣相沉積膜厚之預測使用神經網路 - CHUR

化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)被廣泛的應用在半導體 ... 進行蒐集，共有下列九項，SiH4、SiH4-T、O2、O2-T、AR、AR-T、. RF_BIAS、RF_SIDE、RF_TOP。

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