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多功能蒸鍍鍍膜系統暨多靶磁控濺鍍儀一套規格書

(b) Ø 4” Sputter Gun (非磁性靶；可调角度) × 2 (Angstrom). (c) 溅镀方式：由下往上打. (d) 独立式气动遮板×2(For Cathode). (e) 溅镀枪独立进气环×3. 6.量測系統：.

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