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ALTUS系列產品

Lam Research領先市場的ALTUS® 系統結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。針對某些應用，透過 ...

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