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乾式蝕刻製程在不添加三氟甲烷氣體下之40奈米反閘及快閃記憶 ...

... metal etch defect ； CHF3 ； Etch gas ； N2 addition on aluminum alloy ... 本文主要研究一種半導體nand flash 40奈米鋁銅導線蝕刻製程，且有關於一種利用反應 ...

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