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雙面光罩對準曝光機(B) (Double Side Mask Aligner (B))

Y-Axis 移動範圍, ±10mm (總行程20mm). 晶片尺寸/厚度, 最大使用尺寸為四吋/厚度4mm. 使用背面對準系統_光罩需將Align Mark製作的位置 ...

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