應用設備製程:目前廣汎使用於半導體CVD、PVD、CD SEM、洗淨機設備仕樣: 分解能0.125° 精度±0.25° 潔淨度Class 1 對應規格4" ~ 8" Wafer (2"~3"特別仕樣對應) 供給 ...
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