你即將離開本站

並前往https://zhuanlan.zhihu.com/p/460023357

薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用

综述： 薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料，比如绝缘化合物二氧化硅，半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「ald鍍膜」的人也找了：

  1. ald製程
    2.
  2. ald原理
    3.
  3. ald原子層沉積
    4.
  4. ald應用
    5.
  5. ALD CVD
    6.
  6. pvd cvd ald比較
    7.
  7. ald設備
    8.
  8. ald設備商
    9.