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牛津儀器提出新技術解決方案，以提高GaN HEMT 性能 - 知勢

另外，將原子層鍍膜技術應用在GaN元件製作上，主要是將沉積保護層在GaN元件上，O.I所提供的新一代ALD鍍膜設備相較於較前一代設備，不僅能改善約4倍的 ...

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