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ald原子層沉積
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通过原子层沉积对粉末材料进行表面改性和功能化,RSC Advances
原子层沉积 (ALD)是传统上用于半导体行业的尖端薄膜涂层技术。ALD通过在气态前体和基材之间交替进行饱和表面反应,使逐层薄膜生长成为可能。
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