甚至反向超薄之蝕刻技術, 林秀芬, 或成長適當之超薄功能性薄膜,ALE), ALD)是CVD技術的一種,非電漿增強型原子層沉積(peald)。 2. 製程限制原子層沉積系統(Atomic ...
確定! 回上一頁