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ALD,原子層沉積技術及應用 - 大永真空設備

其中，自我侷限的意思為：一次的ALD cycle，只在基板(Substrate)表面成長單一原子層之 ... 利用三甲基鋁(Trimethylaluminum，Al(CH3)3，TMA)與水(H2O)成長Al2O3膜， ...

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