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UV -Vis 儀器 原理
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https://ndltd.ncl.edu.tw/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi/login?o=dnclcdr&s=id=%22089NTHU0442078%22.&searchmode=basic
摻磷之SiO2對UV曝光後折射率變化之研究
在論文的安排中吾人在,第二章中則概略描述PECVD的基本原理,第三章主要著重於UV Laser照光、照光前後折射率變化及材料分析,並加入吾人所使用之量測儀器原理描述。
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