你即將離開本站

並前往http://www.naura.com/index.php/innovate/news_art/1092.html

一篇文章读懂低压化学气相沉积（LPCVD） - NAURA创新

顾名思义，化学气相沉积（CVD）就是通过气体混合的化学反应在晶圆表面淀积一层 ... LPCVD广泛用于二氧化硅（LTO TEOS）、氮化硅（低应力）（Si3N4）、 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「TEOS CVD」的人也找了：

  1. teos用途
    2.
  2. teos半導體
    3.
  3. TEOS SiO2
    4.
  4. teos特性
    5.
  5. USG oxide
    6.
  6. TEOS oxide
    7.
  7. PECVD
    8.
  8. teos半導體用途
    9.