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CN103572253B - 反应腔室和具有它的半导体设备 - Google

因此现在大部分PECVD设备增加了RPS (远程等离子体源)清洗功能，原理是通过RPS产生大量的氟离子和附着在腔室壁以及电极板上的氮化硅进行反应，生成的四氟化娃气体，被气 ...

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