RF濺鍍 是最被廣為使用的方法,因為RF. 濺鍍可以提供包括了靶材、O2/Ar或純O2的. 氣體流量、基板溫度、以及工作壓力等不同. 參數以沉積出具有良好性質的ZnO薄膜[2]。 以下 ...
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