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ALD,原子層沉積技術及應用

其中，自我侷限的意思為：一次的ALD cycle，只在基板(Substrate)表面成長單一原子層之薄膜；前驅物(Precursor)只在基板上產生單一分子層的吸附，吸附能力主要與表面活性 ...

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