应用程序升温技术研究了氢甲酰化反应物CO,H2和C2H4在经PPh3修饰的Rh/SiO2(PPh3-Rh/SiO2)催化剂上的吸附-脱附行为CO-TPD结果显示,Rh/SiO2催化剂在348,398和525K处 ...
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