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APC應用在半導體蝕刻製程之氣體回饋機制

關鍵字: 先進製程控制;Advanced process control;前測回饋;後測回饋;射頻使用時間;預先試行;feed-forward;feedback;RF-time;pilot run. 出版社: 資訊科學與工程學系所.

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