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半導體PVD設備龍頭打破壟斷未來國産化有望進一步提升

以上工藝均使用特定的CVD設備以及PVD設備。 PVD工藝一般可分為三種：真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍。 芯片制造過程中沈積不同薄膜 ...

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