PVD 顧名思義是以物理機制來進行薄膜湚積而不涉及化學反應的製程技術,所謂物理機制是物質的相變化現象,如蒸鍍(Evaporation),蒸鍍源由固態轉化為氣態,濺鍍(Sputtering) ...
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