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PVD CVD 優缺點
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物理氣相沈積法(Physical Vapor Deposition,PVD)
陰極濺射法中,濺射的原子有大的能量,初始原子撞擊基質表面即進入幾個原子層深度,這有助於薄膜層與基質間的良好附著力。濺射法的另一個優點是可以改變靶 ...
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