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光刻机如何限制半导体产能，国产化还需要多久？ - 电子工程

不需EUV光刻机也能生产5nm芯片，半导体技术迎来重大突破 · 铠侠开发NIL半导体工艺：直奔5nm 无需EUV光刻机. 评论( 0 ). 暂无评论. 查看全部评论.

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