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KLA-Tencor：7奈米以下製程需有效降低顯影成型誤差 - CTIMES

KLA -Tencor針對7奈米以下的邏輯和尖端記憶體設計節點推出了五款顯影成型控制系統，以幫助晶片製造商實現多重曝光技術和EUV微影所需的嚴格製程公差。

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