你即將離開本站

並前往https://www.eet-china.com/news/201608291611.html

以SRM技术监测微影工艺控制因子与光阻 - 电子工程专辑

KLA -Tencor在过去15年来为半导体产业IC组件的CD与外观形状量测，提供利用椭圆偏光法(spectroscopic ellipsometry)以及反射法(reflectometry)的SCD度量 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「KLA SCD」的人也找了：

  1. scd量測
    2.
  2. scd量測原理
    3.
  3. kla產品
    4.
  4. scd半導體
    5.
  5. kla-tencor sheet resistance
    6.
  6. KLA Archer
    7.
  7. Metrology and inspection
    8.
  8. KLA defect 原理
    9.