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半導體微影製程設備新興技術發展與產業觀察
但是隨著目標線寬愈來愈細,曝光機使用更先進的光學鏡組和演算法,使得最新的先進製程所需的EUV價格上看臺幣100億元。加上EUV機台運作的複雜性,以 ...
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