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英特爾在IEDM會議上展望未來十年的晶片發展路線圖 - 每日頭條

英特爾預計自家工藝節點技術可每兩年迎來一次飛越，首先是從2019 年的10nm 工藝、升級到2021 年的7nm 極紫外光刻（EUV）。 然後 ...

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