ICP -RIE等离子刻蚀机SI 500 ... 由于离子能量低,离子能量分布带宽窄,因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。 ... 对于具有高深宽比的高速硅 ...
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