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工作壽命試驗(OLT) - iST宜特

看懂三大挑戰，克服AI晶片可靠度設計難關 ... EM造成contact底部金屬層空洞. EM 造成金屬導線空洞而導致開路. Refer to JEP122G. 電子遷移-EM.

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