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俄烏戰火導致「晶片荒」加劇？連ASML 都緊張了，危機有多 ...

如在目前DUV 光刻機主要採用的ArF（氟化氬）激光器中，氖氣就占到了氣體混合物的96% 以上。 有了優質的光源之後，光刻機才能進一步製造晶片。 具體原理 ...

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