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日本荷蘭限制對華晶片技術出口，光刻機巨頭進一步面臨兩難

作為製造半導體晶片的關鍵設備，光刻機一般分為三種，即最早的UV（紫外線光刻機），和後來的DUV（深紫外線光刻機）以及EUV（極紫外線光刻機），其中EUV用 ...

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