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DUV光刻機
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DUV光刻机遭进一步限制中国仍有破局之路 - cnBeta.COM
台积电的5nm工艺技术最小金属间距为28nm,出口禁令应基于这些参数制定适用标准。 Patel还认为,通过SAQP等工艺和浸没式DUV光刻机,中芯国际已经实现了7nm ...
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