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以反應性磁控濺鍍沈積氧化亞銅薄膜之結構與光電性質研究

在GIAXRD中發現， Cu4O3(301)、Cu4O3(303)、CuO(021)對射頻功率、基板溫度以及氧氣流率三項變因很不敏感。另外，氧格隙可增加氧化亞銅的導電性，同時會使薄膜在可見光 ...

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