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X 光繞射分析技術與應用 - 台灣儀器科技研究中心

X 光繞射技術的發展，始於1912 年勞厄(Max von Laue) 對光波通過晶體的研究。其後布拉格父. 子(W. H. Bragg, W. L. Bragg) 使用X 光繞射，成功.

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